最高速度でパワフルに
プラズマ制御

半導体メーカーがデバイスの特徴サイズをナノメートルスケールからオングストロームへと拡張 し、新しい 3D アーキテクチャを可能にしてデバ イスの性能と密度を向上させるにつれ、重要な プラズマプロセスでは、RF 電力供給をより高度
かつ正確に制御する必要が出てきます。

Synertia® は、複雑なパルスプロファイルと複数のパルス状 態に対応する比類のないインピーダンスマッチングを提供
し、クラス最高の精度と再現性を実現しながら、オンウェーハで最良の結果を得るためのプラズマ条件のカスタマイズ
を可能にします。

Synertia® それは・・・

1 + 1 = 3

を実現する革新の力。

Synertia® RF 電力供給 プラットフォームは、連続波、パルス 波、マルチレベルパルス波形の各プロセス遷移における正
確な最適化を可能にし、オンウェーハで最良の結果を得るためにプラズマ条件をカスタマイズし、クラスをリードする
精度と再現性を提供し、次のノード以降の量産ニーズに応えます。

Synertia® プラットフォームは、超高速通信と調整、強力なデ ータ収集機能、実用的な洞察を可能にするオンボード分析
により、ジェネレーターとマッチングネットワーク間の相乗 効果をさらに高め、これまで以上に複雑なプラズマアプリケ
ーションを可能にします。

Synertia®プラットフォームは、幅広い周波数と電力レベルのRFジェネレータとRF整合ネットワークで構成されています。